中来光电受邀参加SiliconPV学术论坛，以技术变革引领行业新高度 全球动态

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近日，光伏学术论坛SiliconPV在荷兰代尔夫特顺利召开。SiliconPV作为光伏行业技术专业性最高的学术论坛之一，涉及硅片、电池、组件、电力系统及市场等范围。近几年，n型太阳能电池已经成为业内专家和企业关注的焦点，中来光电助理总经理倪健雄受邀参会，发表了以 ‘Installations by Jolywood in MENA Area’ 为主题的演讲，介绍了中来TOPCon电池POPAID技术路线独特的无绕镀优势和TOPCon 3.0效率提升方向，并分享了在MENA地区案例和户外实证性能优越表现。

通过网络会议，倪健雄阐述了行业首创的POPAID（Plasma Oxidation & Plasma Assisted Insitu-doping Deposition）技术，即等离子氧化及等离子辅助原位掺杂技术，重点指出POPAID技术实现了TOPCon电池核心结构中隧穿氧化层、掺杂多晶硅层的一体式沉积，减少了清洗绕镀的工序，通过不断优化工艺流程提升电池转化效率，同时有效降低了电池反向漏电流，保障中来TOPCon产品的耐热斑可靠性。

同时，倪健雄展示了中来在中国年度辐射量最高的CPVT银川实证基地进行的户外实证结果。户外实证数据表明采用了POPAID技术的TOPCon组件，在工作温度和功率衰减方面表现优异：中来TOPCon双玻组件的月度工作温度均值，比PERC双玻组件低约1.6℃，同时，PERC透明背板单玻组件的月度工作温度均值比PERC双玻组件低约1.2℃；中来TOPCon双玻组件（26块组件）的首年衰减低于0.5%。

作为全球n型技术引领者，中来在技术路线上坚定地选择了TOPCon技术，并不断引领技术变革。日前，中来自主研发的J-TOPCon 3.0 POPAID技术在M10尺寸n型电池片上，实现了高达26.7%的电池片实验室转换效率，创造了n型TOPCon电池的新世界纪录。

中来秉承“少消耗，多发电”的使命，坚持技术创新和高可靠性协同并举，让高品质组件在全生命周期内稳定安全发电，以技术变革引领行业新高度。

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