全球今热点：国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要

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新华财经北京4月24日电（王春霞）国家知识产权局局长申长雨4月24日在国新办发布会上表示，党的十八大以来，我国知识产权法治建设取得丰硕成果。一方面，建立了符合国际通行规则、门类较为齐全的知识产权法律制度，民法典确立了依法保护知识产权的重大法律原则，专利法、商标法、著作权法先后修改，建立了国际上高标准的侵权惩罚性赔偿制度。同时，加入了几乎所有主要的知识产权国际条约，去年海牙协定和马拉喀什条约也在中国正式生效。另一方面，通过机构改革，实现了专利、商标、地理标志、集成电路布图设计的集中统一管理，知识产权工作的整体性、系统性和协同性显著增强。

“下一步，我们将按照党的二十大报告强调的‘加强知识产权法治保障，形成支持全面创新的基础制度’这一部署要求，统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。”申长雨说。

一是加快推动完成专利法实施细则修改，促进专利开放许可、实用新型明显创造性审查、外观设计明显区别审查等新修改内容实施，积极推进实用新型制度改革，做好我国加入海牙协定后的审查管理，全面融入全球外观设计体系。

二是加快新一轮商标法的修改论证，着力解决商标领域恶意抢注、大量囤积等深层次矛盾和问题。

三是修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要，助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。

四是加快地理标志专门立法，协调地理标志专门保护和商标保护两种模式，制定地理标志统一认定实施方案，实现地理标志认定统一入口、统一出口，更好发挥地理标志在促进特色产业发展、乡村振兴和文化传承等方面的重要作用。

五是加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究，助力相关领域创新发展。同时，积极参与知识产权国际规则制定，更好对接高标准国际经贸规则，助力高水平对外开放。

编辑：刘润榕

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