高频科技：超纯工艺护航半导体制造，助力良率与生产效率双提升

在全球半导体产业加速向先进制程迭代的大背景下,超纯水的重要性日益凸显。作为芯片制造中清洗、刻蚀等环节的关键介质,超纯水的纯度与稳定性直接影响着晶圆良率与生产效率。在这一背景下,高频科技凭借先进的超纯工艺实现电子级超纯水制备,满足了高端芯片制造的需求,更以高效节水解决方案驱动产业链降本增效,成为推动行业高质量发展的重要力量。

精进超纯工艺,助力半导体良率和生产效率跃升

半导体制造对超纯水的要求极为严格,其电阻率需高达18.2MΩ·cm,且对离子、有机物、微生物等杂质的容忍度极低。任何微小的杂质都可能导致晶圆电路短路或性能衰减,进而影响产品性能、降低良率,最终拖累企业生产效率。

超纯水如此高的指标要求,背后是极为复杂和精细的制备工艺。在国内,高频科技是极少数能够在芯片领域提供超纯水系统的企业,亦是国内首家具备12英寸14nm芯片产线超纯水制备能力的系统供应商。该公司长期专注超纯水领域,依托资深的技术团队,经过持续研发投入与工艺探索,其超纯水系统制备的超纯水纯度可达ppt级别,离子含量仅万亿分之一,充分满足了下游客户生产全阶段的超纯水需求,为半导体良率和生产效率的提升提供了强力支撑。

高效节水,助力降本增效可持续发展

半导体是“耗水大户”,且随着工艺日趋先进,对其表面清洁程度要求不断提高,耗水量也随之增加。以每月生产4万片200mm晶圆的工厂为例,其日用水量可达到8000至10000吨。而当技术节点推进至16nm甚至7nm时,同等产能的12英寸晶圆厂每日用水量将激增至约2万吨。如何在保障超纯水供应的同时,实现水资源的节约和高效利用,已成为全球半导体行业面临的共同挑战。在此背景下,高频科技凭借其创新研发的回用水系统,为解决这一难题提供了新的思路和解决方案。

高频科技不仅掌握了先进的纯水制备与废水处理工艺,能够深度净化水质,满足后续制程的严苛标准;更具备前瞻性的系统设计能力,通过对制程中产生的30余种废水进行精细化分流和管理,如纯水再生浓水、低浓度氢氟酸、研磨、酸/碱以及洗涤塔废水等,结合针对性处理工艺,实现了废水的高效回用。高频科技的项目可实现整厂用水回收率高达90%,在保障水质的同时,助力企业降本增效,实现可持续发展。

半导体产业作为现代科技的国之重器,其发展水平已成为衡量一个国家科技实力和综合国力的重要标志。高频科技作为聚焦于芯片制造等电子核心产业的超纯水系统供应商,始终以研发创新为驱动,持续精进超纯水工艺,为我国半导体产业的高质量发展添砖加瓦。随着半导体产业链创新活力的不断增强,行业正向着更先进、更绿色的未来蓬勃发展,相信高频科技将继续以创新之力,为行业向上发展贡献力量。

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